工业制造太阳能硅片雷士超声波清洗机

一、本机构成       
超声波发生器一台
超声波清洗机一台

二、技术参数
整机重量：        40KG
超声波振盒尺寸：  630*460*100mm
超声波频率：      40KHz
超声波功率：      2400W
工作电压：    220V ±10%   
频率：    50HZ
 
三、产品特性
该超声波清洗机设备非常适用于工件表面易被空化，工件较薄、较脆、易损坏的场合使用，其产生的空化泡密度大，但轰击力较弱，对脏污油渍程度大的物件不适合，但其较好的轰击密度则是特种材料行业的首选超声波清洗机。
 
四、清洗范围
半导体硅片、太阳能电池硅片、晶体、PCB板、IC芯片转接器、硅片、电子线路板、电脑主板、压电陶瓷片、多晶硅、单晶硅等器件的生产加工、回收再利用等过程的清洗。
清洗原理
借助于表面活性剂的润湿、渗透、乳化、增溶、分散等作用, 使沾污在Si片表面的附着力削弱, 再施以加热、超声波等物理方法, 使沾污脱离 Si片表面, 而进人清洗液中被乳化 、分散开。
 
五、产品优点
1.清洗效果好，清洁度高且全部工件清洁度一致
2.清洗速度快，提高生产效率
3.不须人手接触清洗液，安全可靠对深孔、细缝和工件隐蔽处亦清洗干净
4.对工件表面无损伤
5.节省溶剂、热能、工作场地和人工等。